fotoresistives Material

fotoresistives Material,

 

Fotolack, der bei der Herstellung von Chips (Chip-Herstellung) und von Platinen benutzt wird. Es handelt sich um einen flüssigen Kunststoff, der unter der Einwirkung von Licht, speziell von UV-Strahlung, aushärtet und widerstandsfähig gegenüber Belichtung wird.

 

Um die gewünschten Strukturen zu erzeugen, wird die Oberfläche des Chips bzw. der Leiterplatte mit dem fotoresistiven Material überzogen. Anschließend belichtet man dieses Material mithilfe einer Maske überall dort, wo Strukturen erhalten bleiben sollen. Anschließend wird der Fotolack ausgewaschen. Die nicht belichteten Bereiche können nun in einem chemischen Verfahren weggeätzt werden. Dabei sind die belichteten Bereiche durch das fotoresistive Material geschützt.